國產(chǎn)光刻機是一款專用于中小規(guī)模集成電路、半導體元器件以及聲表面波器件的研制和生產(chǎn)的先進設(shè)備。其出色之處在于其高度先進的找平機構(gòu)，可以實現(xiàn)對多種材料的高精度曝光，包括硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片和寶石片等。
主要特點
1.高精度：國產(chǎn)光刻機在精度方面不斷提升，部分機型已經(jīng)能夠?qū)崿F(xiàn)納米級精度的圖案投影和刻蝕。
2.多制程覆蓋：國產(chǎn)光刻機覆蓋了從成熟制程到先進制程的多個領(lǐng)域，能夠滿足不同芯片制造企業(yè)的需求。
3.全流程國產(chǎn)化：隨著技術(shù)的不斷進步，國產(chǎn)光刻機已經(jīng)實現(xiàn)了從設(shè)計、制造到測試的全流程國產(chǎn)化，降低了對外部技術(shù)的依賴。
市場應用
國產(chǎn)光刻機在市場上的應用日益廣泛。隨著新能源汽車、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等新興產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，對芯片的需求不斷增加，國產(chǎn)光刻機在芯片制造領(lǐng)域發(fā)揮著越來越重要的作用。同時，國產(chǎn)光刻機的崛起也打破了國際的長期壟斷，為中國半導體產(chǎn)業(yè)鏈的發(fā)展注入了強勁動力。
國產(chǎn)光刻機主要技術(shù)指標：
1.設(shè)備配備了一件承片臺，其尺寸可以根據(jù)用戶的需求進行定制。
2.曝光頭采用了多點光源曝光頭，其性能特點如下：
3.出射光斑直徑不超過230mm，采用高壓直流汞燈，功率為350W。
4.在直徑為230mm的范圍內(nèi)，光的不均勻性小于±10%。
5.能夠在真空密封條件下進行曝光。
6.曝光時間可以通過0.1～999.9秒的時間繼電器進行設(shè)定。
7.汞燈的位置可以通過精密的x、y、z調(diào)節(jié)裝置進行調(diào)整，分別可以調(diào)節(jié)±5毫米。
8.具備風扇冷卻裝置。
9.分辨率不低于5μm。
10.具備真空吸片功能。
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