痕量氣體分析儀能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)高純度氣體中的痕量雜質(zhì)氣體（CO、CO2和CH4）的感度連續(xù)測(cè)量。采用交替流動(dòng)調(diào)制方式的非分光紅外吸收原理可以實(shí)現(xiàn)無零點(diǎn)漂移的長(zhǎng)期安定的連續(xù)測(cè)量。使高純氣體中的痕量氣體檢測(cè)成為可能。典型平衡氣氣體N2、O2、He、Ar、H2和空氣。
痕量氣體分析儀的應(yīng)用：
1、廣泛用于工業(yè)氣體分析，危害氣體監(jiān)測(cè)，生產(chǎn)線質(zhì)量控制等
2、測(cè)量氫氣中的ppb級(jí)硫氣體含量
3、測(cè)量CO2中ppb硫氣體含量
4、測(cè)量He, H2, Ar, O2, N2, CH4, C2H6, NH3, CO2, CO等普通氣體的純度和雜質(zhì)
5、測(cè)量稀有氣體Rn,He, Ne, Kr, Xe等稀有氣體的純度和雜質(zhì)
6、測(cè)量半導(dǎo)體氣體 C3F8, N2O, C2H2, C2H6,H2, SiH4, SiF4, HBr, CF4, CCl4, NF3, C2F6, C3H4, PH3, AsH3, SF6, NH3 的純度和雜質(zhì)
痕量氣體分析儀優(yōu)點(diǎn)：
1、無重新調(diào)零；無漂移。零點(diǎn)信息包含在信號(hào)中，實(shí)現(xiàn)分析儀的自動(dòng)和固有歸零。
2、低維護(hù)，MTBF高。除了不含移動(dòng)光學(xué)元件外，紅外光源（電信型激光器）的MTBF為5年。
3、無干擾。OFCEAS技術(shù)與低壓取樣相結(jié)合，提供了較多的選擇性，實(shí)現(xiàn)了同時(shí)取樣無干擾的多分量測(cè)量，與矩陣無關(guān)。
4、無樣品預(yù)處理。與低壓取樣相關(guān)的OFCEAS技術(shù)允許直接測(cè)量。取樣系統(tǒng)中的低壓消除了管線中化學(xué)品吸附/解吸和冷凝的任何風(fēng)險(xiǎn)。
5、清潔管路/過濾器。低壓取樣系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)低流速（3-9升/小時(shí)），而不會(huì)降低響應(yīng)時(shí)間。污染物在管路和過濾器中的積聚大大減少。
6、簡(jiǎn)單易用。程序已針對(duì)您的應(yīng)用進(jìn)行了預(yù)校準(zhǔn)。包裝在一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的19英寸機(jī)架中，包括一個(gè)觸摸屏接口和用于本地/遠(yuǎn)程控制和實(shí)時(shí)顯示/記錄結(jié)果的車載PC。
7、易于集成。該程序允許數(shù)字（以太網(wǎng)、RS485、RS232、ModBus）、模擬和TDR I/O該產(chǎn)品不含光學(xué) 運(yùn)動(dòng)部件，嚴(yán)格為工業(yè)和車載移動(dòng)應(yīng)用而設(shè)計(jì)和制造。
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