小型蒸餾水機(jī)是是以去離子水為原料水，用蒸汽加熱的蒸餾水生產(chǎn)設(shè)備。該設(shè)備所生產(chǎn)的蒸餾水水質(zhì)穩(wěn)定，純度高，無(wú)熱原。是目前應(yīng)用的注射用水制備系統(tǒng)的關(guān)鍵設(shè)備。多效蒸餾水機(jī)采用高溫高壓操作，確保穩(wěn)定生產(chǎn)無(wú)熱原注射用水。
它可分一次和多次蒸餾水。水經(jīng)過(guò)一次蒸餾，不揮發(fā)的組分殘留在容器中被除去，揮發(fā)的組分進(jìn)入蒸餾水的初始餾分中，通常只收集餾分的中間部分，約占60%。要得到更純的水，可在一次蒸餾水中加入堿性溶液，除去有機(jī)物和二氧化碳；加入非揮發(fā)性的酸，使氨成為不揮發(fā)的銨鹽。由于玻璃中含有少量能溶于水的組分，因此進(jìn)行二次或多次蒸餾時(shí)，要使用石英蒸餾器皿，才能得到很純的水，所得純水應(yīng)保存在石英或銀制容器內(nèi)。
小型蒸餾水機(jī)的清洗方法分析：
多效蒸餾水機(jī)中產(chǎn)生的水垢主要有兩種，一種是鍋爐水垢，另一種是二氧化硅水垢，清洗時(shí)應(yīng)采用不同的清洗劑：
1、對(duì)鍋爐水垢，可用氨基磺酸(NH2SO2OH)，使用時(shí)用去離子水配制成濃度為1%的清洗溶液，其PH值在所1~2之間，并加熱到60℃左右。也可用磷酸(H3PO4)，使用時(shí)用去離子水配制成2%濃度的清洗溶液，并加熱到65℃左右
2、對(duì)二氧化硅水垢，可采用二氟化銨(NH4HF2)，使用時(shí)用去離子水配制成濃度為1.5%的溶液，并加熱到50℃~60℃。也可采有用氫氧化鈉+陰離子活性劑，配制成濃度為10%的清洗液，并加熱到60℃左右。在化學(xué)清洗方法去除上述兩種水垢時(shí)，多效蒸餾水機(jī)不少用戶還采用市售的通用型不銹鋼清洗劑，效果不錯(cuò)，使用也較方便。在使用酸性溶液清洗以后，一般還要求使用中和溶液進(jìn)行中和。中和溶液的配制方法如下：在去離子水中加入0.5%的小蘇打(HaHCO3)和0.1%陰離子界面活性劑。
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