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提高配位滴定選擇性的方法

2023年07月08日 17:21:24      來(lái)源:上海洪紀(jì)儀器設(shè)備有限公司 >> 進(jìn)入該公司展臺(tái)      閱讀量:40

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.混合離子的分步準(zhǔn)確滴定條件——  MN(干擾離子)共存時(shí)

關(guān)鍵:減少KNY;消除 NIn顏色干擾

基本條件:  logcM KMY 6                TE   ±0.1%

    當(dāng)有兩種離子共存時(shí),如M N共存時(shí),則干擾情況與cM K’MY cK’NY 有關(guān),兩者相差多大才能準(zhǔn)確滴定呢?

設(shè):溶液中含有兩種金屬離子 M N,濃度分別為cM、cN

       若要求 TE% 1.0%:則 [M]ep cM/100

此時(shí)(終點(diǎn))              (16)

    NY 的濃度比終點(diǎn)時(shí) [M]還要小10倍,此時(shí)即可忽略N 的干擾(在允許誤差范圍內(nèi))

      又因?yàn)?/span>K’MY 較大         [MY]ep? cM/2          [N]?cN /2

然后根據(jù)M、N的螯合平衡,可推導(dǎo)出消除N 不干擾滴定的條件:

                         17

            ? logc?K 5(當(dāng)cM=cN時(shí))              18

因此,實(shí)現(xiàn)混合離子準(zhǔn)確分步滴定的條件是:

         logcM?KMY 6

         logcM?K’MY  - logcN?KNY 5

. 消除干擾離子影響的措施

(一)當(dāng)K’MY K’NY 相差較大時(shí)( cM=cN時(shí),? logcK’5

                                         ——控制溶液適宜的酸度

         log KMY-log aY(H)=8,或    log cMKMY -log aY(H)=6

  求得:  log aY(H)              *高酸度(*低pH 值)

  再由    logcNKNY            *低酸度(*高pH 值)

                    (同時(shí)考慮 Ksp)

 *后在兩個(gè)pH間選   logKMIn’? pMsp

(二)若logK’MY  log K’NY 接近時(shí)

                                    ——利用掩蔽和解蔽作用(降低[N]

1. 配位掩蔽法——利用配位反應(yīng)降低[N]

如:用 EDTA滴定水中Ca2+、 Mg2+ 離子

       加入三乙醇胺與Fe3+ 、Al3+(干擾離子)形成穩(wěn)定配合物,消除的Fe3+ 、Al3+干擾(酸性溶液中加入三乙醇胺,然后調(diào)節(jié)pH 10~12

2. 沉淀掩蔽法——利用沉淀反應(yīng)降低[N]

如: Ca2+、 Mg2+ 混合溶液中 Ca2+ 的測(cè)定

        調(diào)節(jié)pH>12 Mg2+  ®  Mg(OH)2ˉ, 再用EDTA ® Ca2+

3. 氧化還原掩蔽法——利用氧化還原反應(yīng)改變干擾離子價(jià)態(tài)的方法

如: ,  

4. 采用選擇性的解蔽劑

M-EDTA配合物的溶液中,加入一種試劑將已被EDTA 配位的金屬離子(或 EDTA)釋放出來(lái),例:

 
 
 

 

(三)化學(xué)分離

          生成沉淀  氣體

(四)選用其它氨羧配位劑

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