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介紹
有三種典型的電鍍處理會(huì)產(chǎn)生廢水:stripping, 清洗(cleaning), 和電鍍( plating)。Stripping槽中包含酸性溶液,包括硫酸,硝酸,鹽酸或氫氟酸等。這些酸用來去除金屬表面的污垢和氧化沉積層,以確保金屬表面在電鍍之前有理想的狀態(tài)。清洗槽中包含有機(jī)溶劑(用來去除油或油脂)和加濕試劑。電鍍槽包含被電鍍的金屬溶液。這通常是一些金屬鹽,如三價(jià)鉻,氧化鎘,或銅的。從這三個(gè)過程中產(chǎn)生的廢水主要包括的污染物是,鉻酸鹽,酸和堿。這篇論文主要集中討論廢水的PH和ORP監(jiān)測(cè)。(北京優(yōu)恩特科貿(mào)有限公司)
應(yīng)用
含廢水是有害的,必須在排放之前進(jìn)行處理。
處理
含廢水的處理過程通常為兩步。**步是使用氧化試劑,如氯或者次氯酸鈉在堿性情況下(高PH值),將氧化為氰酸鹽(氰酸鹽的毒性要比毒性小的多)。
**步,是添加更多的氯或者次氯酸鈉,但是和**步相比,是在低PH值情況下,將氰酸鹽氧化為二氧化碳或和氮?dú)狻?/span> **步 下列化學(xué)方程表示了變?yōu)榍杷猁}的過程: NaCN + 2NaOH + Cl2 <---> NaCNO + H20 首先,通過添加強(qiáng)堿將pH 調(diào)節(jié)并控制到10或更高。 注意: pH10或更高,必須保持,因?yàn)槿绻麖U水接觸到酸,會(huì)釋放出危險(xiǎn)的(CNCI) 或(HCN)氣體。 提高pH值以后, 通過增加氧化試劑,其ORP值(氧化還原電位)增加到大約(+) 250 mV。當(dāng)所有的被氧化為氰酸鹽時(shí),ORP監(jiān)測(cè)可以看到突變(典型是50 mV) 。這些反應(yīng)發(fā)生于15 到30 分鐘。 注意:優(yōu)良ORP值和PH改變是不同的過程。因此pH 控制就是必要的。同時(shí)實(shí)際的ORP值設(shè)定點(diǎn)必須根據(jù)實(shí)際的情況確定。 **步 下列化學(xué)方程式表示了氰酸鹽的氧化過程: 2NaCN0 + 4NaOH + 3Cl2 <---> 6NaCl + 2CO2 + N2 + 2H20 **步的反應(yīng)過程發(fā)生在較低的pH (8.5 to 9 pH)情況下。這種較低的pH 主要是由于在**步堿的消耗,代替NaOH,添加酸并不是典型的減少pH的方法。同時(shí),更多的氧化物被添加,直到ORP值增加到大約(+) 300 mV。記住,此值依賴于這個(gè)過程的特性,并非固定。 儀表 對(duì)于典型的兩步法處理系統(tǒng),在下圖中予以描述:(Figure1) 建議準(zhǔn)備兩個(gè)pH 和兩個(gè)ORP控制系統(tǒng)。推薦使用平表面pH 和ORP電極??梢詼p少清洗頻率和節(jié)省更多的時(shí)間。所有的控制器必須有繼電器控制輸出,并且設(shè)定點(diǎn)可以調(diào)整和設(shè)定。推薦控制器有報(bào)警輸出,以便警告操作者,當(dāng)超出正常范圍時(shí)。選擇變送器連接PH和ORP電極,通過PLC控制也是一個(gè)好的選擇。 對(duì)于分解處理系統(tǒng),強(qiáng)烈推薦ORP傳感器有金(相對(duì)于鉑金)電極表面。兩個(gè)重要的原因是:金電極會(huì)產(chǎn)生更大的毫伏電位差;并且金電極不會(huì)被廢水中鎘和鋅毒害 ? 四pH/ORP 控制器(你的選擇) ? 兩個(gè)pH 傳感器(Model 970211) ? 兩個(gè)ORP 傳感器金電極(Model 970466) 結(jié)論 由于每一個(gè)廢水都是的,推薦分析這個(gè)影響,以確保高效的廢水分解。在廢水中有其它有機(jī)物和金屬,可能會(huì)產(chǎn)生副反應(yīng),可能需要更多的氧化試劑,更長(zhǎng)的反應(yīng)時(shí)間。 廢水監(jiān)測(cè)產(chǎn)品 浸入式pH電極(Submersible pH Sensors)型號(hào)S650CD:適用于含氰廢水的PH監(jiān)測(cè),美國(guó)神瑞(sensorex)出品(/sensor17_Category_11285_1.html) 浸入式ORP電極(Submersibl ORP Sensors)型號(hào)S650CD-ORP:適用于含氰廢水的ORP監(jiān)測(cè),美國(guó)神瑞(SENSOREX)出品:(/) 控制器MU2000:(/sensor17_Product_2599341.html)德國(guó)邁格出品