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V2MS17-真空氧化爐

2024年07月19日 08:53:53      來源:創(chuàng)新制造 >> 進入該公司展臺      閱讀量:24

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一、設(shè)備基本原理與特點

1. 基本原理

真空氧化爐為氣體保護多用途爐,可滿足在還原氣體或成型氣體氣氛中對藍(lán)寶石退火,還原、燒結(jié)和表面處理等工藝需要,廣泛應(yīng)用于航空航天、金屬材料、粉末冶金、陶瓷產(chǎn)品、半導(dǎo)體器件、厚膜電路、磁性材料等領(lǐng)域。

2.設(shè)備特點

1)具備完善的報警功能,更的安全連鎖保護系統(tǒng);

2)完善的氣氛控制系統(tǒng),滿足各種工藝需要;

3)高性能優(yōu)質(zhì)電氣元件保證設(shè)備長期運行的穩(wěn)定可靠性;

4)低負(fù)荷加熱器,可有效提高設(shè)備的使用壽命。

二、主要技術(shù)參數(shù)

編號

V2MS17

產(chǎn)品型號

VHSms-20/20/30-1700

最高設(shè)計溫度(  

1700

加熱元件

硅鉬棒

加熱功率(kW

12

冷態(tài)極限真空度( Pa 

 6.7x10-2Pa(空爐、冷態(tài)、經(jīng)凈化)

測溫元件

鎢錸熱電偶

升溫速率

1~10℃/min

溫度均勻性

±5℃(5點測溫,恒溫區(qū)1000℃保溫1h后檢測)

爐膛尺寸(mm)

200x200x300(WxHxD)

可充氣氛

氮氣/氬氣一路

設(shè)備外形尺寸( mm 

1425x1550x1850mm(DxWxH)

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