相信大家對紫外臭氧清洗機已經不會感到陌生了吧，它具有安全、簡易的操作特點，配置了安全傳感器將避免臭氧環(huán)境污染和紫外線對操作者的暴露；并擁有良好的簡易人機交互控制界面，不需要任何特殊的培訓即可使用。隨著我國工業(yè)現(xiàn)代化的發(fā)展，光清洗和光改質技術還將逐步應用于金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產領域。
紫外臭氧表面清洗應用范圍較廣，在材料研究和器件制造等很多領域都有應用。可以用于硅片和塑料包裝的表面清洗；用于在MOCVD和ALD工藝之前對III-V復合半導體晶圓片(如GaAs和InP)進行表面清洗；用于玻璃、PDMS、PMMA、COC、COP等基材的直接清洗；適用于各類材質表面的有機污染物清洗。
雖然表面清洗和制程方法有多種選擇，但紫外臭氧清洗顯示出優(yōu)于其他方法的幾個優(yōu)點。而傳統(tǒng)清洗方式分別為干法清洗和濕法清洗兩種方式：
1、與干法清洗對比，基板充電損傷小。在等離子體處理中，離子轟擊引起的充電損傷是一個嚴重的挑戰(zhàn)。它會導致器件的電氣特性退化。紫外臭氧處理提供表面處理使用氧自由基沒有等離子體放電，它是等離子體蝕刻的一種經濟有效的替代方法，因為它不需要任何特殊的真空室、氣體或特殊設備。
2、與濕法清洗對比，沒有有害的廢水。濕式清洗需要處理化學廢水，與濕法清洗相比，紫外UV臭氧處理是一個干燥的過程。而紫外臭氧清洗機內會配備臭氧清除裝置，廢氣臭氧在系統(tǒng)內分解，不會造成清潔室內的臭氧含量過高從而產生危害。它也可配置成連續(xù)加載的清洗線，并可與DI水沖洗系統(tǒng)耦合，清除表面的顆粒。
紫外臭氧清洗機常用于掃描探測顯微鏡的樣品應用，能用于清洗原子力顯微鏡探針，掃描探針顯微鏡標準和表面上常規(guī)的油漬層和殘留的無機材料，也能用來改變物體表面的疏水性，有助于部件和表面的化學改性，經過氧化和硬化處理的探針有利于在掃描過程中保持探針的幾何形狀，削尖的探針有利于提高側向分辨率。
