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GL300 Cluster全自動納米壓印光刻生產(chǎn)線是模塊化的全自動納米壓印生產(chǎn)線，集成了從納米壓印基底清洗、涂膠、烘烤、冷卻直至納米壓印全套工藝步驟。標配天仁微納CLIV（Contact Litho in Vacuum）壓印技術(shù)，可實現(xiàn)200/300mm基底面積上全自動高精度（優(yōu)于10nm ）、高深寬比（優(yōu)于10比1 ）納米結(jié)構(gòu)復制量產(chǎn)。設(shè)備采用模塊化設(shè)計，用戶可以根據(jù)工藝需求和生產(chǎn)節(jié)奏自由配置清洗、涂膠、烘烤、冷卻、Plasma表面處理、AOI檢測、Post Cure以及壓印的模塊數(shù)量，達到生產(chǎn)效率。設(shè)備支持自動工作模具復制、工作模具自動更換、自動預處理和壓印、自動脫模，整個工藝過程在密閉潔凈環(huán)境中進行，以保證壓印結(jié)果質(zhì)量。

GL300 Cluster納米壓印設(shè)備適用于DOE、AR/VR衍射光波導（包括斜齒光柵）、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、微透鏡陣列等應用領(lǐng)域的大規(guī)模量產(chǎn)。