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　　這款薄膜溶解測(cè)厚儀用于實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜在液體中薄膜厚度變化和光學(xué)常量（n, k)變化，是的薄膜溶解測(cè)量?jī)x和薄膜溶解測(cè)試儀。為了這種特色的測(cè)量，我們特意為薄膜溶解測(cè)厚儀研發(fā)了Teflon樣品池用于測(cè)量薄膜樣品，使用一種岔頭探針?biāo)桨惭b在Teflon 樣品池的外部，距離玻璃窗口非常接近，使用白光反射光譜技術(shù)（WLRS)，實(shí)時(shí)測(cè)量薄膜厚度和折射率，并通過軟件記錄下這些數(shù)據(jù)。

　　另外，根據(jù)需要，我們還能夠在測(cè)量區(qū)域下安裝攪拌裝置stirrer，提供力學(xué)激勵(lì)振動(dòng)。

　　我們還特意為該薄膜溶解測(cè)量?jī)x提供垂直的樣品夾具，以固定小尺寸的硅樣品或3''，4''直徑的Si 晶圓。

　　薄膜溶解測(cè)量?jī)x根據(jù)溶解過程的不同，如溶解速度的不同，該薄膜溶解測(cè)試儀能夠以實(shí)時(shí)或離線的方式測(cè)量，反射率數(shù)據(jù)都能夠存儲(chǔ)下來以便后續(xù)處理使用。

　　這套薄膜溶解測(cè)量?jī)x,還能夠測(cè)量幾十個(gè)納米厚度的光致抗蝕劑和聚合物薄膜堆的溶解過程。薄膜溶解測(cè)試儀而且還可以測(cè)量薄膜的膨脹等特殊現(xiàn)象。

　　對(duì)于薄膜厚度的測(cè)量，薄膜溶解測(cè)厚儀需要光滑，具有反射性的襯底，對(duì)于光學(xué)常數(shù)測(cè)量，平整的反射襯底即可滿足測(cè)量需要。如果襯底是透明的，襯底的背面不能具有反射性。該薄膜溶解分析儀能夠給出兩個(gè)參數(shù)：例如兩個(gè)薄膜的厚度或一個(gè)薄膜的厚度和光學(xué)常量。

　　這套薄膜溶解測(cè)厚儀已經(jīng)成功應(yīng)用于測(cè)量反射襯底（Si晶圓）上各種光滑，透明或輕度吸收薄膜的溶解過程，可研究的薄膜包括SiO2薄膜,SiNx薄膜,光致抗蝕劑薄膜，聚合物薄膜層等。

　　薄膜溶解測(cè)厚儀標(biāo)準(zhǔn)參數(shù)

　　可測(cè)膜厚： 5nm-150微米；

　　波長(zhǎng)范圍：200-1100nm

　　精度：0.5%

　　分辨率：0.02nm

　　測(cè)量點(diǎn)光斑大小：0.5mm

　　可測(cè)樣品大?。?0-100mm

　　計(jì)算機(jī)要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；

　　尺寸：360x400x180mm

　　重量：15kg

　　電力要求：110/230VAC

　　薄膜溶解測(cè)厚儀應(yīng)用：

　　聚合物薄膜

　　光致抗蝕劑薄膜測(cè)量

　　化學(xué)和生物薄膜測(cè)量，傳感測(cè)量

　　光電子薄膜結(jié)構(gòu)測(cè)量

　　在線測(cè)量

　　光學(xué)鍍膜測(cè)量

　　能夠以實(shí)時(shí)或離線的方式測(cè)量，反射率數(shù)據(jù)都能夠存儲(chǔ)下來以便后續(xù)處理使用。

　　這款薄膜溶解測(cè)量?jī)x用于實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜在液體中的薄膜厚度和光學(xué)常量（n, k)的變化,是測(cè)量薄膜溶解速度的薄膜溶解分析儀.