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激光非晶硅激光刻膜機(jī)

產(chǎn)品二維碼
參   考   價: 200
訂  貨  量: ≥1臺
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 產(chǎn)品型號:FPWOP-steepas
  • 品牌:
  • 產(chǎn)品類別:顯微鏡
  • 所在地:
  • 信息完整度:
  • 樣本:
  • 更新時間:2022-07-14 21:43:50
  • 瀏覽次數(shù):7

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  • 經(jīng)營模式:其他
  • 商鋪產(chǎn)品:988條
  • 所在地區(qū):
  • 注冊時間:2017-04-26
  • 最近登錄:2022-07-14
  • 聯(lián)系人:楊經(jīng)理
產(chǎn)品簡介

這套超快激光非晶硅激光刻膜機(jī)是特別為太陽能產(chǎn)業(yè)光伏工業(yè)而設(shè)計的整套飛秒激光刻膜機(jī)系統(tǒng)

詳情介紹

  這套超快激光非晶硅激光刻膜機(jī)是特別為太陽能產(chǎn)業(yè)光伏工業(yè)而設(shè)計的整套飛秒激光刻膜機(jī)系統(tǒng)??捎糜?strong>光伏電池激光加工,激光去除氮化硅膜,氮化硅膜激光蝕刻,晶圓邊緣隔離,有可以當(dāng)作激光刻膜機(jī),激光劃片機(jī)使用。

  這套非晶硅電池激光刻膜機(jī)采用*的紫外飛秒激光和紅外納秒激光,可以同時提供如下四合一服務(wù):

  — SiNx/SiO2去除,

  去除二氧化硅,去除氮化硅

  邊緣隔離晶圓

  背接觸激光燒結(jié)和激光刻槽

  激光打標(biāo)

  其中紫外飛秒激光用于SiNx/SiO2的選擇性燒蝕或切除(氮化硅膜蝕刻),配備的紫外飛秒激光可以非常精密地剝蝕SiNx(去除氮化硅膜),同時在Si層的直接或熱效應(yīng)降低到,從而增加載流子壽命(少子壽命),避免微裂紋。而配備的1064nm的納秒激光工作非常穩(wěn)定而快速,將用于晶片的快速激光邊緣隔離,激光打標(biāo)和激光燒結(jié)

  該非晶硅激光刻膜機(jī)配備自動處理和掃描系統(tǒng),支持5’’和6’’直徑的硅晶片加工。同時配備機(jī)械視覺系統(tǒng)以隨時調(diào)節(jié)激光束掃描,保持高度重復(fù)性和可靠性。

  該非晶硅電池激光刻膜機(jī)配1級激光安裝防護(hù)裝置和灰塵消除系統(tǒng),營造無塵加工環(huán)境,以保證飛秒激光的精密燒蝕和熱效應(yīng)影響的最小化。

  非晶硅電池激光刻膜機(jī)特色

  ·配備的激光器處理能力高達(dá)800個晶片/小時或350000px/s

  ·加工量為425個晶片/小時,優(yōu)化后可用于2.5MW/a產(chǎn)品的生產(chǎn)線

  ·適用5'’和6''硅晶片 紫外飛秒激光和紅外納秒激光光源

  ·機(jī)械視圖系統(tǒng)可調(diào)節(jié)激光掃描場

  · 精密激光光束定位

  ·激光劃線激光剝蝕激光熔化

  非晶硅電池激光刻膜機(jī)成功經(jīng)歷

  ·為用戶提供了無銀敷金屬技術(shù)生產(chǎn)太陽能電池

  ·成功地裝配到生產(chǎn)能力高達(dá)2.5MWp/a的生產(chǎn)線上。

  這套非晶硅電池激光刻膜機(jī)使用飛秒激光對晶圓wafer的發(fā)射端進(jìn)行介電層(SiNx)的選擇性移除。SiNx厚度為50-90nm,覆蓋發(fā)射端,必須移除而不傷害發(fā)射 層。一種應(yīng)用是消蝕SiNx層的同時,也產(chǎn)生bus bars和fingers開口,下一步,這些開口將被鎳覆蓋,這樣就形成了高質(zhì)量的前接觸。這套非晶硅激光刻膜機(jī)系統(tǒng)使用振鏡掃描器(Galvanometer scanner)控制激光束切割發(fā)射端,的機(jī)械視圖功能能夠探測晶圓位置。

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