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　　這款薄膜溶解測厚儀用于實時監(jiān)測薄膜在液體中薄膜厚度變化和光學(xué)常量（n, k)變化，是的薄膜溶解測量儀和薄膜溶解測試儀。為了這種特色的測量，我們特意為薄膜溶解測厚儀研發(fā)了Teflon樣品池用于測量薄膜樣品，使用一種岔頭探針?biāo)桨惭b在Teflon 樣品池的外部，距離玻璃窗口非常接近，使用白光反射光譜技術(shù)（WLRS)，實時測量薄膜厚度和折射率，并通過軟件記錄下這些數(shù)據(jù)。

　　另外，根據(jù)需要，我們還能夠在測量區(qū)域下安裝攪拌裝置stirrer，提供力學(xué)激勵振動。

　　我們還特意為該薄膜溶解測量儀提供垂直的樣品夾具，以固定小尺寸的硅樣品或3''，4''直徑的Si 晶圓。

　　薄膜溶解測量儀根據(jù)溶解過程的不同，如溶解速度的不同，該薄膜溶解測試儀能夠以實時或離線的方式測量，反射率數(shù)據(jù)都能夠存儲下來以便后續(xù)處理使用。

　　這套薄膜溶解測量儀,還能夠測量幾十個納米厚度的光致抗蝕劑和聚合物薄膜堆的溶解過程。薄膜溶解測試儀而且還可以測量薄膜的膨脹等特殊現(xiàn)象。

　　對于薄膜厚度的測量，薄膜溶解測厚儀需要光滑，具有反射性的襯底，對于光學(xué)常數(shù)測量，平整的反射襯底即可滿足測量需要。如果襯底是透明的，襯底的背面不能具有反射性。該薄膜溶解分析儀能夠給出兩個參數(shù)：例如兩個薄膜的厚度或一個薄膜的厚度和光學(xué)常量。

　　這套薄膜溶解測厚儀已經(jīng)成功應(yīng)用于測量反射襯底（Si晶圓）上各種光滑，透明或輕度吸收薄膜的溶解過程，可研究的薄膜包括SiO2薄膜,SiNx薄膜,光致抗蝕劑薄膜，聚合物薄膜層等。

　　薄膜溶解測厚儀標(biāo)準(zhǔn)參數(shù)

　　可測膜厚： 5nm-150微米；

　　波長范圍：200-1100nm

　　精度：0.5%

　　分辨率：0.02nm

　　測量點光斑大?。?.5mm

　　可測樣品大小：10-100mm

　　計算機要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；

　　尺寸：360x400x180mm

　　重量：15kg

　　電力要求：110/230VAC

　　薄膜溶解測厚儀應(yīng)用：

　　聚合物薄膜

　　光致抗蝕劑薄膜測量

　　化學(xué)和生物薄膜測量，傳感測量

　　光電子薄膜結(jié)構(gòu)測量

　　在線測量

　　光學(xué)鍍膜測量

　　能夠以實時或離線的方式測量，反射率數(shù)據(jù)都能夠存儲下來以便后續(xù)處理使用。

　　這款薄膜溶解測量儀用于實時監(jiān)測薄膜在液體中的薄膜厚度和光學(xué)常量（n, k)的變化,是測量薄膜溶解速度的薄膜溶解分析儀.