這套無掩膜光刻機(jī)具有無掩模光刻技術(shù)的便利,大大提高無掩膜影印和新產(chǎn)品研發(fā)的效率,節(jié)省時(shí)間,是的無掩模光刻系統(tǒng)。
這款無掩模光刻機(jī)直接用375nm或405nm紫外激光把圖形寫到光膠襯底上。
無掩模光刻系統(tǒng),無掩膜光刻機(jī)特色
尺寸:925x925x1600mm
內(nèi)置計(jì)算機(jī)控制接口
激光光源:375nm或405nm
視頻輔助定位系統(tǒng)
自動(dòng)聚焦設(shè)置
無掩模光刻機(jī),無掩膜光刻機(jī)參數(shù)
線性寫取速度 gt;500mm/s
重復(fù)精度: 100nm
晶圓寫取面積:1—6英寸
襯底厚度:250微米-10毫米
激光點(diǎn)大?。?-100微米
準(zhǔn)直精度:500nm
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