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年來，在半導(dǎo)體工業(yè)中，對臭氧的應(yīng)用越來越多。臭氧被廣泛運用在晶圓清洗和電子元件清洗中。德國ANSEROS安索羅斯臭氧發(fā)生器MEGAGEN系列COM-VD在半導(dǎo)體加工等方面發(fā)揮重大作用。

臭氧發(fā)生器COM-VD系列產(chǎn)品優(yōu)勢：

ANSEROS安索羅斯臭氧發(fā)生器COM-VD系列是專門為獲得高濃度臭氧而設(shè)計的。在低氧氣消耗量的氣相中，臭氧 濃度可達到 300g O3/Nm3。

MEGAGEN系列臭氧發(fā)生器COM-VD能與ANSEROS安索羅斯AOPR反應(yīng)器配合使用，其質(zhì)量轉(zhuǎn)移效果非常好，可以將大量的臭氧轉(zhuǎn)換成液相，從而達到強力去除COD的目的。

臭氧發(fā)生器MEGAGEN COM-VD系列數(shù)據(jù)表

臭氧發(fā)生器COM-VD系列產(chǎn)品特點：

臭氧濃度

低耗氧量

低功耗

相關(guān)反應(yīng)性高

低AOPR(高級氧化工藝)能耗

臭氧發(fā)生器COM-VD系列產(chǎn)品應(yīng)用：

+ AOP(高級氧化技術(shù))污水處理、去除COD

+ HOXON®廢水系統(tǒng), API廢水

+ 半導(dǎo)體加工（如晶圓清洗，電子元件臭氧清洗）

+ 除臭

+ 研發(fā)

+ 藥品生產(chǎn)

臭氧發(fā)生器在半導(dǎo)體晶圓清洗上的應(yīng)用

晶圓清洗是目前半導(dǎo)體生產(chǎn)線上 重要、 嚴謹?shù)墓ば蛑?，在很多的清洗工序中，只要有一道工序達不到要求，就會導(dǎo)致征辟的芯片的報廢和流程不順暢，傳統(tǒng)的RCA清洗法需要大量的化學(xué)試劑，帶來了成本的增加以及均勻性不一致的問題，而臭氧是一種具有氧化性的氣體，把它溶解在超純水中，噴灑在晶圓表面，可以將表面的有機污染物氧化為二氧化碳和水，非常容易就可以去除表面有機物，同時還會在晶圓表面形成一層致密的氧化膜。因此德國ANSEROS安索羅斯臭氧發(fā)生器非常適合運用在半導(dǎo)體特別是晶圓清洗上。

臭氧發(fā)生器COM-VD系列產(chǎn)品規(guī)格：

翁開爾是德國ANSEROS安索羅斯中國總代理，了解更多關(guān)于德國ANSEROS安索羅斯臭氧發(fā)生器，歡迎致電【】咨詢。