
產(chǎn)品概述
YES TA系列真空固化/蒸氣底漆系統(tǒng)使用六甲基二硅氮烷(HMDS)提供快速,均勻,經(jīng)濟(jì)的底漆,以改善光刻膠的附著力。 這些多功能系統(tǒng)還支持圖像反轉(zhuǎn),以與正性抗蝕劑相同的分辨率和易用性形成負(fù)性圖像。
有效的光致抗蝕劑附著力構(gòu)成所有后續(xù)處理步驟的基礎(chǔ),并且只有上底漆的表面才能準(zhǔn)確地復(fù)制亞微米CD,而不會(huì)出現(xiàn)底切或邊緣不整齊的情況。 TA系統(tǒng)的真空固化可使基材脫水,從而使HMDS層具有出色的粘合力,即使暴露在大氣中數(shù)周后仍保持穩(wěn)定。
真空固化/蒸汽灌注與濕灌注:
?化學(xué)沉積的均勻性
?接觸角在±3度以內(nèi)
?防潮表面改性
?流程步驟之間的可用時(shí)間增加
?增強(qiáng)的光刻膠附著力
?與濕底漆相比,化學(xué)消耗量和化學(xué)成本更低
除了硅晶片處理之外,TA系列還可以用于砷化鎵,鈮酸鋰和其他奇特材料的低溫HMDS底涂。
TA系列的優(yōu)點(diǎn):
?N 2預(yù)熱可防止箱體冷卻。
?過濾機(jī)制減少了顆粒物的引入。
?電涌抑制系統(tǒng)可在盒帶裝入期間限制湍流。
?*的控制系統(tǒng)提供用戶可選的溫度,處理時(shí)間和腔室尺寸。
?在引入HMDS之前,為了安全起見,四個(gè)真空循環(huán)清除了O 2。

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