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CIF推出全新一代CPC系列桌面型、可中試生產(chǎn)、模擬生產(chǎn)條件的等離子體清洗設(shè)備，幾乎具備等離子體清洗設(shè)備所有的功能。具有較大的腔體尺寸和樣品處理面積，使用成本低，性價比高，易維護(hù)，處理快速高效，特別適合于大學(xué)，科研院所和光電企業(yè)實(shí)驗(yàn)室小批量中試生產(chǎn)。

產(chǎn)品特點(diǎn)：
可模擬生產(chǎn)條件，便于小批量中試生產(chǎn)。
桌面型，占用空間小。
性能穩(wěn)定，操作簡便，使用成本低，易于維護(hù)，性價比高。
有效處理面積大，可處理8寸硅片去膠等應(yīng)用。
可處理不同幾何形狀、表面不同粗糙程度的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等樣品，進(jìn)行清洗和改性。